工具機如何邁向下一世代工業4.0之路?

2015/07/31...告訴您


文章標籤

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

2015年4月28日---第五屆 LS-DYNA應用與發展研討會

2015年4月 29 日 ---LS-DYNA 進階訓練課程

主辦單位:APIC愛發股份有限公司
協辦單位:LSTC 公司 ‧ 台北科技大學車輛系

更多相關訊息...

文章標籤

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

 2D概念設計解決方案提升設計速度
‧ 觸控式介面讓使用者可以隨時隨地使用 NX


NX 10全新的可選觸控式介面為使用者提供了在操作Microsoft Windows®作業系統的平板電腦上使用NX的靈活性,用戶可隨時隨地使用NX來提高協同性與工作效率。更易使用的NX,和透過西門子Teamcenter® 軟體的創新介面Active Workspace 與PLM實現更緊密整合的特點,都讓使用者能夠迅速找到相關資訊,甚至能迅速從多個外部資料來源中找到相關資訊。使用者可以隨時隨地在任何設備上連網路造訪Active Workspace。

NX 10 為CAD/CAM/CAE解決方案提供了多個增強功能,包括全新的NX CAE 多重物理場環境,能夠連接兩個或更多的求解器,簡化複雜模擬的執行過程,從而顯著提高模擬整合度。多重物理場環境為執行多重物理場模擬提供了一致的顯示風格,因此工程師可以使用共用的單元類型、屬性、邊界條件以及求解器控制和選項,便捷地在同一網格上建立耦合解決方案。

透過使用NX CAM中新增的產業制定功能,工程師可以提高程式設計速度和零件加工品質。新的動態調整粗加工方法可根據零件的幾何形狀自動調整,以提高模具加工品質。透過NX CMM數控測量程式設計中新增的自動檢驗程式設計功能,使用者可以用 PMI(產品製造資訊)來建立檢驗掃描路徑,檢驗速度遠遠快於目前產業應用的“觸點法”。

此外,NX 10 還為汽車裝配製造業提供了全新的生產線設計功能。利用這一功能,工程師可以在NX中設計和實現生產線佈局視覺化,並使用Teamcenter®和Tecnomatix®軟體來管理設計,驗證、最佳化製造過程。

更多相關訊息....

 

文章標籤

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

台北:

1.業務代表(CAD/CAE/CAM軟體銷售)

2.CAE結構軟體應用工程師

3.CAD/CAM/CAE 應用開發工程師

文章標籤

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

● 台北場:
2015年1月26日8:30am~4:00pm 寒舍艾麗酒店 台北市信義區松高路18號
● 台南場:
2015年1月28日 8:30am~4:00pm大億麗緻酒店 台南市中西區西門路一段660號

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

課程內容

一. scSTREAM軟體操作介紹
● 模型與初始設定
● 網格

文章標籤

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

TracePro 7.5 版 新功能介紹

【新功能/增加功能】
1. 更新 CodeMeter key 以改善認證程序。
2. 新的散射模型特點:

文章標籤

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

Step 1. 請向愛發公司業務索取30 DAY TRIAL FORM END USER INFORMATION REQUIRED 表單填寫後回傳。

Step 2. 請連結到以下網站download TP 7.5(不需帳密)
連結網頁

Step 3. 安裝完成後啟動Tracepro出現以下畫面,並點選Request Trial License:

文章標籤

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

朗達科技 ( Lambda Research Corporation ) 2014年度的 TracePro 課程規劃出來了。各位 TracePro 的愛用者可以依照工作內容的需求,選擇最適合您的課程參加。每個班次的人數有限,請有意願參加的客戶與愛發公司聯絡登記或是逕自依照附件簡章中的聯絡方式與本公司洽詢。

本次課程共有七堂,依照不同授課目標,簡介如下:

1.TracePro雜散光分析課程:2014/06/04-2014/06/05
本課程將完整介紹如何使用 TracePro 正確的模擬分析成像系統中的雜散光現象,並在課程中引入基本的TracePro Macro Scheme Language,讓您可以藉由撰寫Macro Scheme 程式,輕鬆建立屬於您的自動化雜散光分 析程式。

2.OSLO光學系統設計與分析課程:2014/06/11-2014/06/12
OSLO 是一套處理光學系統佈局和優化的代表性光學模擬軟體,透過OSLO,使用者能快速、 準確地掌握系統的成像品質,搭配上OSLO 優異的優化及公差分析功能,將協助使用者迅速地設計 出所需之光學元件。此外,OSLO 為一套功能延展性強大的光學模擬軟體,讓使用者可依個案需求, 自由擴充、撰寫設計專用的工具程式。

3.TracePro通用進階課程:2014/06/18-2014/06/19
在進階課程中,將會深入介紹 TracePro 的各項進階功能,與說明其模擬的工作原理。藉由深入了解TracePro 的模擬計算方法後, 與熟悉TracePro 所提供的進階模擬技巧,相信對從事光學設計的您來說,再使用TracePro 進行模 擬分析上,將會有莫大的助益。

4.TracePro LED設計與應用課程:2014/06/25-2014/06/26
適合目前使用TracePro在LED一二次光學設計、螢光粉LED設計與分析與照明相關產業從業人員參加。課程目標將由光源的建立與分析到互動式優化工具的熟悉,以期上課學員都能利用TracePro進行產品的設計優化與性能分析。

5.TracePro Scheme程式語言課程:2014/07/02-2014/07/03
透過Macro Scheme Language 操控TracePro 完成模擬,並可進一步完成自 動化分析,與照明系統的優化設計。藉由熟悉Macro Scheme Language,便可以讓TracePro 發揮 其強大的分析功能,進而大幅縮短研發的時間。

6.TracePro背光設計與優化課程:2014/07/09-2014/07/10
本課程將完整介紹如何使用 TracePro 完成背光模組之分析,並在課程中引入TracePro 所提供的背光模組網點優化軟體的使用教 學,讓您可以藉由網點優化程式與光學分析軟體的操作,輕鬆完成背光模組的設計。

7.TracePro互動式優化器課程:2014/07/16-2014/07/17
TracePro®二維與三維互動式優化器是優化光學系統的利器,本課程將透過不同的系統案 例來引導使用者熟悉互動式優化器的操作與工作原理,案例包含了LED、燈具、導光件的優化,除了 操作介面的說明外,更希望能夠引發學員使用After-scheme 與scheme 的結合進行更複雜的系統 設計與優化參數的能力。

<更多相關訊息..>


文章標籤

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

Lambda Research Corporation發表TracePro 7.2版

    Littleton, Massachusetts – 7月20日, 2012 –Lambda 公司發表了其獲獎的照明及光學分析軟體的最新版本──TracePro 7.2 版。TracePro 7.2 版的特色包含了完全互動式的 3D 優化器,透過讓使用者完整的控制優化過程,特別有助於提升產能。新版的3D優化器強調能迅速繪製任何 3D 對稱或非對稱的CAD幾何結構、以互動式的光線追跡進行設計驗證和設置目標函數,大幅地減少了設計時間、提升產能,同時也提供使用者完全控制優化過程的功能。

    TracePro 7.2 版的特色還包含了新增 DMD 鱗甲結構,可模擬投影電視和數位電影放映機上 DMD 晶片的設計,每一個鏡面亦能個別指定方向,以模擬加上新結構的光學結果。 

文章標籤

TracePro 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()

«12 3